O bloco de alvo de titânio é um material de titânio especializado usado principalmente em técnicas de deposição física de vapor (PVD) e magnetron, onde o PVD é amplamente utilizado na produção de revestimentos avançados, enquanto a pulverização de magnetron é comumente usada na fabricação de chips semicondutores e componentes eletrônicos . O PVD é amplamente utilizado na produção de revestimentos avançados, enquanto a pulverização do magnetron é comum na fabricação de chips semicondutores e componentes eletrônicos. Os alvos de titânio são fabricados finamente a partir de titânio puro ou ligas de titânio. Seus benefícios exclusivos incluem dureza e densidade extremamente alta, além de excelente resistência à corrosão, o que o torna estável em uma variedade de ambientes. Além disso, os alvos de titânio têm boa condutividade térmica e alta pureza, proporcionando excelente desempenho para a tecnologia de filmes finos. É um produto frequentemente processado em nossos peças de titânio.
Os alvos de titânio são lajes de titânio ou liga de titânio de alta pureza feitas por um processo de fundição a pó de fusão. Suas propriedades mais notáveis são de alta pureza e excelente densificação. A densidade do alvo de titânio de alta qualidade pode atingir mais de 99,5%, e os elementos de impureza são muito baixos, como Fe, Si, O, N, H e outros elementos são inferiores a 100 ppm, o que torna o alvo de titânio nas propriedades físicas e as propriedades químicas são muito mais do que o titânio puro industrial comum.
Além disso, os alvos de titânio têm excelente homogeneidade. Durante o processo de preparação, tratamentos de fusão e extinção múltiplos são usados para melhorar efetivamente a uniformidade da organização do alvo de titânio. A superfície do alvo é suave e limpa, a organização interna é densa e o tamanho do grão é pequeno, o que garante a uniformidade da camada depositada. O alvo de titânio também possui excelente condutividade térmica e pequeno estresse térmico, para que não seja fácil produzir rachaduras, pode suportar o processo de alta potência da pulverização ou evaporação do arco. Além disso, a alta resistência mecânica dos alvos de titânio pode efetivamente melhorar a vida útil do serviço e reduzir a perda de alvo, melhorando assim seu desempenho e valor geral em uso.
Usos comuns de alvos de titânio
Magnetron Sputtering.
Preparação de revestimentos ópticos, como filmes anti-reflexivos para lentes de óculos e filmes de aprimoramento da transmitância para lentes.
Preparação da gravação magnética baseada em titânio, usada no disco rígido do computador e em outros armazenamento de dados. Preparação de filmes condutores à base de titânio para eletrodos em telas LCD.
Sputtering a laser.
Preparação de camadas de endurecimento da superfície para peças mecânicas para melhorar a resistência ao desgaste.
Preparação de revestimentos de superfície para ligas biomédicas de titânio para melhorar a biocompatibilidade.
Evaporação do arco: Preparação de eletrodos frontais transparentes para células solares.
Preparação de filmes condutores transparentes para eletrodos dianteiros de células solares.
Preparação de camadas de reforço baseadas em titânio para materiais compósitos.
Evaporação do feixe eletrônico: Preparação de filme condutor transparente para o eletrodo dianteiro da célula solar.
Preparação de eletrodos traseiros para células solares rutil.
Preparação de filmes anti-reflexivos e passivados para dispositivos fotovoltaicos.
Preparação de revestimentos para amortecedores de choques de automóveis.
Casado de íons: preparação de revestimentos dentários e ortopédicos.
Preparação de revestimentos bioativos para implantes de titânio dental e ortopédico para melhorar a ligação óssea-implante.
Preparação de revestimentos resistentes a desgaste e corrosão para pistões de motor de automóveis.
Preparação de revestimentos endurecidos de superfície para ferramentas de corte de metal para melhorar o desempenho de corte.
Revestimento químico.
Preparação de camadas de interconexão condutora para placas de circuito eletrônico.
Preparação de revestimentos reflexivos leves para peças decorativas automotivas.
Preparação de altos revestimentos de refletividade para componentes ópticos.
Deposição da camada atômica (ALD).
Preparação de camadas de barreira de difusão para novos tipos de memórias, como interconexões de cobre.
Preparação de filtros ópticos para sensores de imagem.
Preparação de camadas de superfície para células solares.
Impressão 3D.
Preparação de implantes e stents de titânio personalizados para aplicações médicas.
Preparação de componentes estruturais leves para aplicações aeroespaciais.
Preparação de peças de metal funcionais para formas complexas.
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